A Coaxial Nozzle Attachment Improving the Homogeneity of the Gas Flow Sputtering

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Detalles Bibliográficos
Publicado en:	Coatings vol. 14, no. 3 (2024), p. 279
Autor principal:	Alktash, Nivin
Otros Autores:	Körner, Stefan, Liu, Tianhao, Pflug, Andreas, Szyszka, Bernd, Muydinov, Ruslan
Publicado:	MDPI AG
Materias:	Germany Stoichiometry Attachment Direct simulation Monte Carlo method Organic chemicals Simulation High vacuum Plasma Poisoning Gases Ellipsometry Glass substrates Gas flow Titanium Process controls Titanium dioxide Film thickness Homogeneity Optical properties Hollow cathodes Coaxial nozzles Cathode sputtering Diffusers Thin films
Acceso en línea:	Citation/Abstract Full Text + Graphics Full Text - PDF
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