Strain-Driven Dewetting and Interdiffusion in SiGe Thin Films on SOI for CMOS-Compatible Nanostructures

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Detalles Bibliográficos
Publicado en:	Nanomaterials vol. 15, no. 13 (2025), p. 965-979
Autor principal:	Freddi Sonia
Otros Autores:	Gherardi, Michele, Chiappini, Andrea, Adam, Arette-Hourquet, Berbezier Isabelle, Fedorov Alexey, Chrastina, Daniel, Bollani, Monica
Publicado:	MDPI AG
Materias:	Silicon Nucleation Energy dispersive X ray spectroscopy Scanning electron microscopy Investigations Strain relaxation Drying Molecular beam epitaxy X-ray diffraction Silicon substrates Atomic force microscopy Raman spectroscopy Thin films Annealing Epitaxial growth Germanium Spectrum analysis Silicon germanides Interdiffusion Nanostructure Lasers Temperature Concentration gradient Etching CMOS Nanocrystals SOI (semiconductors) Quantum dots X-ray spectroscopy Microscopy Morphology
Acceso en línea:	Citation/Abstract Full Text + Graphics Full Text - PDF
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