Computational lithography

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Ma, Xu, 1983-
Otros Autores: Arce, Gonzalo R.
Formato: Electrónico eBook
Lenguaje:inglés
Publicado: Oxford : Wiley-Blackwell, 2010.
Colección:Wiley series in pure and applied optics.
Materias:
Acceso en línea:https://biblioteca.ues.edu.sv/acceso/elibro/?url=https%3A%2F%2Felibro.net%2Fereader%2Fbiblioues/178332
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