Computational lithography

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Autor principal: Ma, Xu, 1983-
Altres autors: Arce, Gonzalo R.
Format: Electrònic eBook
Idioma:anglès
Publicat: Oxford : Wiley-Blackwell, 2010.
Col·lecció:Wiley series in pure and applied optics.
Matèries:
Accés en línia:https://biblioteca.ues.edu.sv/acceso/elibro/?url=https%3A%2F%2Felibro.net%2Fereader%2Fbiblioues/178332
Veure a l'OPAC
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!